반도체 제조의 핵심 단계인 웨이퍼 스크라이빙은 칩의 품질과 출력에 직접적인 영향을 미칩니다.
CMP(Chemical Mechanical Polishing) 기술은 반도체 제조에서 전체적으로 균일하고 평평한 웨이퍼 표면을 얻기 위한 핵심 공정입니다.
