Doheem
Materialien
0102030405
Quarzglas geschmollt mat verschiddenen Aarte vu purem natierleche Quarz
Bau Feature vum Quarz Glas
Pure Quarzglas besteet aus enger eenzeger Silica (SiO₂) Komponent, an d'Si-O-Bindungen am Quarzglas sinn an engem kuerz-Gamme bestallt a laangfristeg gestéiert Staat arrangéiert.Duerch déi staark a stabil Verbindungsenergie vun der Si- O Bond, Quarzglas huet eng héich Erweichungstemperatur, exzellent Spektraltransmittanz, Ganz niddereg Koeffizient vun der thermescher Expansioun a Konduktivitéit, ganz héich chemesch Stabilitéit, Stralungsbeständegkeet a laang Aarbechtsliewensfunktiounen ënner extremen Konditiounen.
Optesch Propriétéit
Quarzglas huet eng Rei vun exzellenten opteschen Eegeschaften. Am Géigesaz zum gewéinleche Glas huet héichreint Quarzglas gutt Iwwerdroung an engem extrem breet Spektrum vum wäit ultraviolette (160nm) bis zum wäiten Infrarout (5μm), wat am allgemengen opteschen Glas net verfügbar ass. Déi exzellent Spektraltransmittanz an optesch Uniformitéit maachen Quarzglas wäit an der Halbleiterlithographie a Präzisiounsoptesch Geräter benotzt. Zousätzlech huet Quarzglas gutt Stralungsbeständegkeet, d'Quarzglas mat Stralungsbeständeg gouf wäit als Fënstermaterial fir Raumschëff benotzt, Schutzdeckele fir Schlësselkomponente vum Raumlaboratoire.
Mechanesch Propriétéit
Quarzglas ass ähnlech wéi gewéinlech Glas, si si brécheg an hart Material. selwecht wéi wéi de gewéinleche Glas, der Stäerkt Parameteren vun Quarz Glas sinn duerch vill Faktoren beaflosst.Inklusiv Uewerfläch Staat, Geometrie an Test Method. D'Drockstäerkt vum transparenten Quarzglas ass allgemeng 490 ~ 1960MPa, D'Trennstäerkt ass 50 ~ 70MPa, d'Biegekraaft ass 66 ~ 108MPa, an d'Tréierkraaft ass ongeféier 30MPa.
Elektresch Eegeschafte
Quarzglas ass en exzellent elektrescht Isoléiermaterial. Am Verglach mam gewéinleche Glas huet Quarzglas eng méi héich Resistivitéit, an d'Resistivitéit vu Quarzglas bei Raumtemperatur ass sou héich wéi 1,8 × 1019Ω∙cm. Zousätzlech huet Quarzglas eng méi héich Decomptespannung (ongeféier 20 Mol déi vum gewéinleche Glas) an e méi nidderegen dielektresche Verloscht.D'Resistivitéit vum Quarzglas ass mat der Temperaturerhéijung liicht erofgaang, an d'Resistivitéit vum opaken Quarzglas war manner wéi déi vun transparent Quarzglas.
Thermesch Immobilie
Well d'Quarzglas bal all déi staark Si-O-Bindung ass, ass seng Erweichungstemperatur ganz héich, an d'laangfristeg Aarbechtstemperatur kann 1000 ℃ erreechen. , a seng linear Expansiounskoeffizient kann 5 × 10-7 / ℃ erreechen. Speziell behandelt Quarzglas ka souguer Null Expansioun erreechen. Quarzglas huet och ganz gutt thermesch Schockbeständegkeet, Och wann et ëmmer erëm e groussen Temperaturdifferenz a kuerzer Zäit erliewt, wäert et net knacken. Dës exzellent thermesch Eegeschafte maachen Quarzglas irreplaceable an héich Temperaturen an extremen Aarbechtsëmfeld.
Héich Puritéit Quarzglas kann an der Chipfabrikatioun an der Halbleiterindustrie benotzt ginn, Hilfsmaterialien fir optesch Faserfabrikatioun, Observatiounsfenster fir industriell Héichtemperaturuewen, High-Power elektresch Liichtquellen, an d'Uewerfläch vum Space Shuttle als thermesch Isolatiounschicht .Den extrem nidderegen thermesche Expansiounskoeffizient erlaabt et och Quarzglas a Präzisiounsinstrumenter a Lensmaterialien fir grouss astronomesch Teleskopen ze benotzen.
Chemesch Eegeschaften
Quarzglas huet ganz gutt chemesch Stabilitéit. Am Géigesaz zu anere kommerziellen Glas ass Quarzglas chemesch stabil fir Waasser, Dofir kann et a Waasserdistillateuren benotzt ginn, déi ganz héich Rengheet vum Waasser erfuerderen. Quarzglas huet exzellent Säure- a Salzresistenz, Dofir kann et a Waasserdistillere benotzt ginn, déi ganz héich Rengheet vum Waasser erfuerderen. Quarzglas huet exzellent Säure- a Salzresistenz, Ausser Fluorsäure, Phosphorsäure a Basis Salzléisungen, reagéiert et net mat de meeschte Säuren a Salzléisungen. Am Verglach mat Säure- a Salzléisungen huet Quarzglas schlecht alkalesch Resistenz a reagéiert mat Alkaliléisungen bei héijen Temperaturen. Zousätzlech, Quarzglas an déi meescht Oxiden, Metaller, Net-Metaller a Gase reagéieren net bei normalen Temperaturen. Déi extrem héich Rengheet a gutt chemesch Stabilitéit maachen Quarzglas gëeegent fir ze benotzen an Ëmfeld mat héijer Produktiounsbedéngungen an der Halbleiterfabrikatioun.
Aner Eegeschafte
Permeabilitéit: D'Struktur vum Quarzglas ass ganz entspaant, an och bei héijen Temperaturen erlaabt et Ionen vu bestëmmte Gase duerch d'Netz ze diffuséieren.D'Diffusioun vu Natriumionen ass am schnellsten. Dës Leeschtung vu Quarzglas ass besonnesch wichteg fir d'Benotzer, zum Beispill, wann Quarzglas als Héichtemperaturbehälter oder Diffusiounsröhre an der Halbleiterindustrie benotzt gëtt, wéinst der héijer Rengheet vum Halbleitermaterial, dem refractaire Material a Kontakt mat Quarz Glas als Schmelzhäre muss duerch héich Temperatur a Botzen pre-veraarbecht ginn, alkalesch Gëftstoffer vun KaliumiodidPëlle an Natrium ewechzehuelen, an dann kann an Quarz Glas fir benotzen gesat ginn.
Applikatioun vum Quarz Glas
Als wichtegt Material gëtt Quarzglas wäit an der optescher Kommunikatioun, Raumfaart, elektresch Liichtquell, Hallefleit, optesch nei Technologie benotzt.
1. Optesch Kommunikatiounsfeld: Quarzglas ass en Hilfsmaterial fir d'Produktioun vun opteschen Faser prefabrizéierten Staangen an opteschen Faser Zeechnen, haaptsächlech d'Basisstatioun Interconnection Maart zerwéiert, an d'Arrivée vun der 5G Ära huet eng enorm Maartfuerderung fir optesch Faser bruecht.
2. New Liichtjoer Aspekt: héich Drock Quecksëlwer Lampe, Xenon Luucht, Wolfram Jodid Luucht, Thalliumjodid Luucht, Infraroutstrahlung Luucht an germicidal Luucht.
3. Semiconductor Aspekt: Quarzglas ass en onverzichtbar Material am Produktiounsprozess vun Halbleitermaterialien an Apparater, wéi zum Beispill de Grown Germanium, Crucible of Silicon Single Crystal, Furnace Core Tube a Bell Jar ... etc.
4. Am Beräich vun der neier Technologie: mat senger exzellenter Leeschtung vun Toun, Liicht an Elektrizitéit, Ultraschall Verzögerungslinn op Radar, Infraroutverfolgungsrichtung fannen, Prisma, Lens vun Infraroutfotografie, Kommunikatioun, Spektrograph, Spektrofotometer, reflektéiert Fënster vum groussen astronomeschen Teleskop , Héichtemperatur Operatioun Fënster, Reaktoren, radioaktiv Installatiounen; Rakéiten, Nues Kegel vu Rakéiten, Düsen a Radome, Radio Isolatioun Deeler fir kënschtlech Satellitte; Thermobalance, Vakuumadsorptiounsapparat, Präzisiounsguss ... asw.
Quarzglas gëtt och an der chemescher Industrie, Metallurgie, elektresch, wëssenschaftlech Fuerschung an aner Aspekter benotzt. An der chemescher Industrie, kann héich Temperatur sauerem resistent géint Gas Verbrennung, Killmëttel a Belëftung Apparater maachen; Stockage Apparat; Virbereedung vun destilléiert Waasser, Salzsäure, Salpetersäure, Schwefelsäure, etc., an aner physesch a chemesch Experimenter. An héijer Temperaturbetrieb kann et als elektresche Schmelzkär Röhre a Gasverbrennungs Heizkierper benotzt ginn. An der Optik, Quarzglas a Quarzglaswoll kann als Rakéitdüsen benotzt ginn, Raumschëff Hëtzt Schëld an Observatiounsfenster, an engem Wuert, mat der Entwécklung vun moderner Wëssenschaft an Technologie, Quarzglas gouf méi wäit a verschiddene Beräicher benotzt.
Applikatioun Beräicher vun Quarz Glas
Mat exzellente kierperlechen a chemeschen Eegeschaften ass Quarzglas wäit an héijer Temperatur, propper, Korrosiounsbeständegkeet, Liichttransmission, Filteren an aner spezifesch High-Tech Produktproduktiounsprozessëmfeld benotzt, ass en onverzichtbar wichtegt Material am Halbleiter, Raumfaart, optesch Kommunikatiounsberäicher.
Semiconductor Feld
Semiconductor Quarzglasprodukter stellen 68% vum Quarzglasproduktmaart aus, an d'Halbleiterfeld ass dat gréissten Uwendungsfeld am Quarzglas Downstream Maart. Quarzglasmaterialien a Produkter gi wäit am Halbleiter Chip Fabrikatiounsprozess benotzt, a sinn erfuerderlech fir Geräter a Kavitéitverbrauchsmaterial fir Halbleiter Ätzen, Diffusioun, Oxidatiounsprozesser ze droen.
Optesch Kommunikatioun Feld
Quarzstäbchen sinn den Haapt Rohmaterial fir optesch Faserfabrikatioun. Méi wéi 95% vun de prefabrizéierten Faserbarren sinn an héich-Rengheet Quarzglas ënnerdeelt, a vill Quarzglasmaterialien ginn am Produktiounsprozess vun der Glasfaser-Making an Drahtzeechnung verbraucht, sou wéi Staang a Quarzbecher ze halen.
Optik agereecht
Synthetesch Quarzglasmaterial gëtt als Objektiv, Prisma, TFT-LCD HD Display an IC Liichtmaske Substratmaterial am High-End opteschen Feld benotzt.
Quarzglasprodukter si Schlësselverbrauchsmaterial a Matière première a verschiddene Beräicher, déi d'Produktioun vu Produkter an der Downstream Industrie beschränken, an et gëtt keen alternativen Produkt am Moment, sou datt d'Nofro fir Quarzglas laangfristeg ass. An den Downstream Industrien, besonnesch déi beschleunegt Entwécklung vun Hallefleit- a Photovoltaikindustrie, wäert de Wuelstand vun der Quarzglasindustrie weider eropgoen.
| Flam fusionéiert Quarz | Elektresch Fuséiert Quarz | Opak Quarz | Synthetesch Quarz | ||
| Mechanesch Eegeschafte | Dicht (g/cm)3) | 2.2 | 2.2 | 1.95-2.15 | 2.2 |
| Young's Modulus(Gpa) | 74 | 74 | 74 | 74 | |
| Poisson Verhältnis | 0.17 | 0.17 | 0.17 | ||
| Béie St reng th(MPa) | 65-95 | 65-95 | 42-68 | 65-95 | |
| Kompressive St reng th(MPa) | 1100 | 1100 | 1100 | ||
| Tensile St reng th(MPa) | 50 | 50 | 50 | ||
| Torsion St ëmmer th(MPa) | 30 | 30 | 30 | ||
| Mohs Hardness(MPa) | 6-7 | 6-7 | 6-7 | ||
| Bubble Duerchmiesser(pm) | 100 | ||||
| Elektresch Eegeschafte | Dielektresch Konstant (10GHz) | 3.74 | 3.74 | 3.74 | 3.74 |
| Verloscht Faktor (10GHz) | 0,0002 | 0,0002 | 0,0002 | 0,0002 | |
| Dielec Trie St reng th(V/m) | 3,7x107 | 3,7x107 | 3,7x107 | 3,7x107 | |
| Resistivitéit (20 ° C) (Q・cm) | >1x1016 | >1x1016 | >1x1016 | >1x1016 | |
| Resistivitéit (1000 ℃) (Q • cm) | >1x106 | >1x106 | >1x106 | >1x106 | |
| Thermesch Eegeschaften | Erweichungspunkt (C) | 1670 | 1710 | 1670 | 1600 |
| Annealing Point (C) | 1150 | 1215 | 1150 | 1100 | |
| St Reen Point(C) | 1070 | 1150 | 1070 | 1000 | |
| Thermesch Konduktivitéit(W/M・K) | 1.38 | 1.38 | 1.24 | 1.38 | |
| Spezifesch Hëtzt (20 ℃) (J/KG・K) | 749 | 749 | 749 | 790 | |
| Expansiounskoeffizient (X10-7/K) | a:25C~200C6.4 | a:25C~100C5.7 | a:25C~200C6.4 | a:25C~200C6.4 | |