Ottieni un servizio affidabile per pistoni in ceramica di allumina industriale Al2O3

Prodotti correlati

Vetro di quarzo fuso con vari tipi di puro quarzo naturale

Per saperne di più

Carburo di silicio utilizzato per parti resistenti alla corrosione, parti di guarnizioni, parti resistenti alle alte temperature, binari di guida e travi quadrate

Ceramica al nitruro di alluminio utilizzata per parti che dissipano il calore e parti resistenti alla corrosione

Effettore finale in ceramica (dito in ceramica, braccio robotico in ceramica)

Zirconia utilizzata per parti resistenti all'usura, parti resistenti al calore

Parte strutturale in vetro di quarzo utilizzata per semiconduttori, ottica, comunicazione ottica, settore fotovoltaico e LED

Parti in ceramica di ossido di berillio utilizzate per auto, semiconduttori e circuiti integrati di grandi dimensioni

Prodotti più venduti

Il mandrino con scanalatura ad anello è ampiamente utilizzato nelle apparecchiature di produzione di semiconduttori per assorbire, fissare, trasferire e gestire wafer di silicio, wafer e vari pezzi e materiali.

Ceramica di allumina con eccellente resistenza alla corrosione al plasma ed elevata resistenza all'usura

Ceramica porosa con resistenza alle alte temperature, elevata resistenza, buona stabilità chimica

Trave quadrata e binario di guida per piattaforme di movimento ultraprecise e apparecchiature di rilevamento

Parti strutturali in ceramica (parti in ceramica)

Ceramica di carburo di silicio di alluminio utilizzata per i settori aerospaziale, automobilistico, militare, elettronico e degli utensili sportivi

Blog correlato

Il Mini LED sarà la direzione principale della futura tecnologia dei display? Discussione sulla tecnologia Mini LED e Micro LED

Mini-LED e micro-LED sono considerati il prossimo grande sfogo nella tecnologia dei display. Hanno una vasta gamma di scenari applicativi su tutti i tipi di dispositivi elettronici e sono sempre più popolari tra...

Tecnologia di assottigliamento del substrato in nitruro di gallio migliorata

Il passaggio a un plasma a base di idrogeno garantisce l'incisione ad alta velocità dei substrati di GaN e gli ingegneri dell'Università di Osaka in Giappone affermano di aver fatto un nuovo passo avanti nell'assottigliamento del nitruro di gallio (GaN...

Ricerca correlata

Leave Your Message