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物理的、化学的、機械的特性に優れた窒化ケイ素セラミックス
窒化ケイ素セラミックには、低密度、高温耐性、自己潤滑性、耐食性などの優れた利点があります。 密なSi3N4セラミックはまた、高い破壊靱性、高弾性率特性、および自己潤滑性を示し、さまざまな摩耗に対して優れた耐性を示し、極端な温度、大きな温度差、そして超高真空。
窒化ケイ素セラミックスの主な用途
機械工学:窒化ケイ素セラミックスは、硬度が高く、耐摩耗性、耐食性に優れており、機械工学分野で広く使用されています。 ベアリング、シール、切削工具、ノズルなどの部品を高温かつ高速で製造するために使用でき、優れた性能と長寿命を実現します。
自動車産業:窒化ケイ素セラミックは高温安定性と耐摩耗性があるため、自動車のエンジン部品の製造に使用されています。 窒化ケイ素セラミックは、ピストン リング、シリンダー ライナー、バルブなどの高性能エンジン部品の製造に使用でき、燃料効率の向上と排出ガスの削減に役立ちます。
航空宇宙:窒化ケイ素セラミックは軽量、高強度、高温耐性を備えているため、航空宇宙用途に理想的な材料です。 高温、高圧、極限環境の要件を満たすエンジン部品、タービンブレード、断熱材、宇宙船の熱保護などの主要コンポーネントの製造に使用できます。
化学工業:窒化ケイ素セラミックは、優れた化学的安定性と耐食性により、化学産業で広く使用されています。 窒化ケイ素セラミックは、化学反応容器、触媒担体、耐酸性および耐アルカリ性の機器およびパイプの製造に使用でき、腐食性媒体や高温条件に耐えることができます。
オプトエレクトロニクス:窒化ケイ素セラミックは優れた光学的および電子的特性を備えているため、オプトエレクトロニクスの分野で重要な用途があります。 優れた光透過率と熱安定性を備え、高温・高出力のファイバーアンプ、レーザー、光通信デバイス、光学窓などの製造に使用できます。
テスト項目 | パフォーマンス | |
密度 (g/cm3) | 3.2 | |
弾性率 (GPa) | 320 | |
ポアソン比 | 0.24 | |
熱伝導率 (m*k) 室温 | 25 | |
熱係数 | 2.79 | |
拡張( 10-6/K) (RT〜500℃) | ||
3点破断強度(MPa) | 950 | |
ワイブル係数 | 13.05 | |
ビッカース硬度 (HV10) Kg/mm | 1490年 | |
破壊靱性(KI、IFR) | 6.5~6.6 | |
細孔径 (gm) | ≤7 | |
混合(量/cm ) | 25-50 | 2 |
50-100 | 0 | |
100-200 | 0 | |
>200 | 0 |