窒化シリコン
窒化ケイ素セラミックス Si3N4
窒化ケイ素セラミックスは、低密度、耐高温性、自己潤滑性、耐腐食性など、優れた利点を備えています。高密度Si3北4 セラミックはまた、高い破壊靭性、高い弾性率、自己潤滑性を示し、さまざまな摩耗に対して優れた耐性を示し、極端な温度、大きな温度差、超高真空など、他のセラミック材料に亀裂、変形、または崩壊を引き起こす可能性のある過酷な環境にも耐えることができます。
窒化ケイ素セラミックスの主な用途
機械工学： 窒化ケイ素セラミックスは、高硬度、優れた耐摩耗性、耐腐食性を備え、機械工学分野で広く使用されています。ベアリング、シール、切削工具、ノズルなどの部品を高温・高速で製造する際に使用でき、優れた性能と長寿命を実現します。
自動車産業: 窒化ケイ素セラミックスは、高温安定性と耐摩耗性に優れているため、自動車エンジン部品の製造に使用されています。ピストンリング、シリンダーライナー、バルブなどの高性能エンジン部品の製造に使用され、燃費向上と排出ガス削減に貢献します。
航空宇宙: 軽量、高強度、高耐熱性を備えた窒化ケイ素セラミックスは、航空宇宙用途に最適な材料です。高温、高圧、極限環境の要件を満たすエンジン部品、タービンブレード、断熱材、宇宙船の熱保護材などの主要部品の製造に使用できます。
化学産業: 窒化ケイ素セラミックスは、優れた化学的安定性と耐腐食性を有するため、化学産業で広く使用されています。窒化ケイ素セラミックスは、化学反応容器、触媒担体、耐酸性・耐アルカリ性機器および配管の製造に使用でき、腐食性媒体や高温条件にも耐えることができます。
オプトエレクトロニクス: 窒化ケイ素セラミックスは優れた光学特性と電子特性を有するため、オプトエレクトロニクス分野で重要な用途を有しています。優れた光透過率と熱安定性を備え、高温・高出力光ファイバー増幅器、レーザー、光通信デバイス、光窓などの製造に使用できます。
| テスト項目 | パフォーマンス | |
| 密度（g/cm3） | 3.2 | |
| 弾性係数（GPa） | 320 | |
| ポアソン比 | 0.24 | |
| 熱伝導率 W/(m*k)室温 | 25 | |
| 熱係数 | 2.79 | |
| 拡張（10-6/K) (室温〜500℃) | ||
| 破断強度 3点 (MPa) | 950 | |
| ワイブル係数 | 13.05 | |
| ビッカース硬度（HV10）kg/mm | 1490 | |
| 破壊靭性（KI、IFR） | 6.5〜6.6 | |
| 孔径（gm） | ≤7 | |
| ミックス（数量/cm） | 25～50歳 | 2 |
| 50～100 | 0 | |
| 100～200 | 0 | |
| >200 | 0 | |