炭化ケイ素セラミックス SiC

炭化ケイ素セラミックスは、常温で高強度、高硬度、高弾性率などの優れた機械的特性、高熱伝導率、低熱膨張係数、良好な比剛性、光学加工特性などの優れた高温安定性を備えており、特にフォトリソグラフィー装置などの集積回路装置の精密セラミック構造部品の製造に適しています。フォトリソグラフィー装置の精密移動ワークテーブル、スケルトン、吸盤、水冷プレートや精密測定ミラー、グレーティングなどのセラミック構造部品に使用される、Fountylの新素材は、長年の技術研究を経て、大型、薄肉、中空などの複雑な構造の炭化ケイ素構造部品の精密加工と製造の問題を解決し、この種の精密炭化ケイ素構造部品の製造技術の技術的ボトルネックを突破しました。集積回路製造装置に使用される重要な構造部品の国産化を大幅に促進しました。

集積回路製造のキーテクノロジーと設備には、主にリソグラフィー技術とリソグラフィー装置、薄膜成長技術と装置、化学機械研磨技術と装置、高密度後処理技術と装置などがあり、いずれも高効率、高精度、高安定性を備えたモーションコントロール技術と駆動技術を駆使しており、構造部品の精度と構造材料の性能に対して極めて高い要求が求められています。リソグラフィー機のワークピーステーブルを例に挙げると、ワークピーステーブルは主に露光動作を担っており、高速、大ストローク、6自由度のナノレベルの超精密動作の実現が求められます。