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Mandril eletrostático com compatibilidade, alta densidade, alta resistência estrutural com personalização

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Mandril eletrostático com compatibilidade, alta densidade, alta resistência estrutural com personalização

O mandril eletrostático tem a função de uso normal em atmosfera de vácuo e desempenha o papel de retenção e controle de temperatura de wafer em plasma de alto vácuo ou ambiente de gás especial, auxiliando equipamentos de processo de semicondutores a realizar a mudança de características elétricas e forma física de áreas específicas de wafer, para que apresente funções específicas. E através de uma série de outros processos complexos e exigentes para eventualmente transformar o wafer em uma estrutura complexa de circuito integrado. O mandril eletrostático e o aquecedor eletrostático do mandril são amplamente utilizados no processo de núcleo semicondutor e são um dos principais componentes da implantação iônica, gravação e deposição de vapor dos principais processos.

    Características

    Compatibilidade | Personalização | Alta Densidade | Alta resistência estrutural | Prazo de entrega rápido | Custo-beneficio

    Formulários

    Lon-implantação | Filme Fino | Gravar | Desenvolvimento de Processos | Projeto de Equipamento

    Design e Fabricação

    Fab de 12 polegadas entregue para verificar o desempenho real, fornecer regeneração e reparo e verificar o desenvolvimento e design.


    Com o desenvolvimento de equipamentos de processo e tecnologia de processo de semicondutores e circuitos integrados, os mandris eletrostáticos tradicionais que usam materiais poliméricos orgânicos, óxidos metálicos e materiais cerâmicos como dielétricos não são totalmente compatíveis com materiais como pastilhas de silício, safira e carboneto de silício. Portanto, mandris eletrostáticos compatíveis com as pinças de wafer semicondutores de primeira, segunda e terceira geração se desenvolverão gradualmente.

    Mandril/aquecedor eletrostático de polímero

    O material dielétrico de polímero (polímero) é atualmente o material de mandril eletrostático mais amplamente utilizado, seu processo de preparação também é o mais maduro, o material dielétrico de polímero após o tratamento de modificação do polímero, as propriedades elétricas, mecânicas, de resistência à temperatura e de resistência ao halogênio serão bastante melhoradas. O material dielétrico é modelado por outras operações integradas e, em seguida, colocado em camadas por carga pesada de vácuo de vários estágios, e uma densa camada de isolamento dielétrico é formada entre os eletrodos internos.

    Mandril eletrostático de polímero

    A tecnologia de modificação de polímero é usada para obter maior resistividade em massa e constante dielétrica relativa, além de obter uma força de fixação mais estável.
    Materiais dielétricos de alta densidade podem reduzir o risco de partículas e reduzir a mobilidade iônica.
    A diversidade de objetos de fixação pode ser compatível com a fixação de wafers de diferentes materiais.
    Excelente resistência à corrosão em atmosferas de halogênio e plasma.
    Desempenho de alto custo, curto período de aceitação, adequado para desenvolvimento de processos de produtos e verificação de desenvolvimento de novos equipamentos.

    Mandril eletrostático de polímero com aquecedor

    Ele pode realizar o layout de múltiplas zonas de temperatura de aquecimento (até 20 zonas de temperatura) e tem boa uniformidade de temperatura de aquecimento (± 5% ℃ @ 150 ℃).
    A tecnologia de laminação a vácuo é usada para atingir densidade extremamente alta e temperaturas de aquecimento de até 200°C.
    Curva de aquecimento uniforme, com uma ampla gama de configurações de curva de temperatura.
    Desempenho de alto custo, curto período de aceitação, adequado para desenvolvimento de processos de produtos e verificação de desenvolvimento de novos equipamentos.

    Mandril / Aquecedor Eletrostático de Cerâmica

    A tecnologia de coagulação cerâmica é um processo de sinterização aprimorado no desenvolvimento de mandris e aquecedores eletrostáticos cerâmicos de alumina/nitreto de alumínio. Seu núcleo é usar uma variedade de pós cerâmicos de diâmetro nanométrico, que são misturados em uma certa proporção por meio de um equipamento e processo de mistura exclusivos. Mandris eletrostáticos cerâmicos com alta densidade, estrutura cristalina estável e distribuição uniforme de resistividade foram sinterizados com uma certa curva de temperatura de sinterização em equipamentos de sinterização. O mandril estático fabricado pela tecnologia de coagulação cerâmica possui alta densidade, estrutura cristalina estável e distribuição uniforme de resistividade de volume, e pode realizar a função de fixação normal do chip em ambientes adversos sob alto vácuo, plasma e halogênio.

    Mandril eletrostático Al₂O₃

    A resistividade do volume é controlada pela tecnologia cerâmica de coagulação e processo de co-queima para obter uma força de retenção mais longa.
    A estrutura interna da sinterização em alta temperatura é densa e a estrutura cristalina é estável, e a capacidade de retenção de um intervalo de temperatura maior pode ser obtida.
    A moldagem por co-queima integrada reduz a migração iônica.
    Operação duradoura em atmosfera de plasma e halogênio a vácuo.

    Mandril Eletrostático AlN

    Ao controlar a composição e proporção do material de concreto, a resistividade do volume pode ser controlada e a capacidade de retenção em um intervalo de temperatura maior pode ser obtida.
    A distribuição uniforme da zona de temperatura é garantida pela tecnologia de sinterização e processo de coqueima da cerâmica de concreto.
    Moldagem de co-queima integrada para maximizar a qualidade do produto.
    Operação duradoura em atmosfera de plasma e halogênio a vácuo.

    Mandril eletrostático de cerâmica com aquecedor

    Ele pode realizar o layout de múltiplas zonas de temperatura de aquecimento e tem boa uniformidade de temperatura de aquecimento (±7,5% ℃ @ 350 ℃).
    A tecnologia de sinterização por laminação a vácuo é usada para atingir temperaturas extremamente altas de densificação e aquecimento de até 550°C.
    Moldagem de co-queima integrada para maximizar a qualidade do produto.
    Operação duradoura em atmosfera de plasma e halogênio a vácuo.

    Mandril/aquecedor eletrostático de tipo complexo

    Pode ser compatível com silício, arsenieto de gálio, carboneto de silício, safira ou fixação de wafer, pode reduzir os custos de troca de fio de fabricantes de equipamentos e usuários finais. Com base na tecnologia de cerâmica de concreto e tecnologia de modificação de polímero, o uso de laminação a vácuo integrada e tecnologia de ligação a quente pode reduzir a resistência térmica interna da ventosa eletrostática, alcançar uniformidade de temperatura interna, formar uma densa camada de isolamento dielétrico para melhorar o desempenho de resistência à migração de íons.

    Mandril eletrostático de tipo complexo

    O uso de tecnologia de modificação de concreto cerâmico e polímero, possui estrutura mais densa e menor liberação de gases.
    Controle mais rígido da camada dielétrica e da espessura do banco de eletrodos.
    A diversidade de objetos de fixação pode ser compatível com a fixação de diferentes wafers.
    A resistividade do corpo pode ser controlada com precisão para obter uma capacidade de retenção eletrostática mais forte.
    Desempenho de alto custo, curto período de aceitação, adequado para desenvolvimento de processos de produtos e verificação de desenvolvimento de novos equipamentos.

    Mandril eletrostático de tipo complexo com aquecedor

    Ele pode realizar o layout de múltiplas zonas de temperatura de aquecimento e tem boa uniformidade de temperatura de aquecimento (±3,5%℃@150℃).
    A tecnologia de laminação a vácuo é usada para atingir densidade extremamente alta e temperaturas de aquecimento de até 200°C.
    Curva de aquecimento uniforme, com uma ampla gama de configurações de curva de temperatura.
    Desempenho de alto custo, curto período de aceitação, adequado para desenvolvimento de processos de produtos e verificação de desenvolvimento de novos equipamentos.