Features
Compatibility | Customization | High-Density | High Structural Strength | Fast Delivery Time | Sumptus efficens
Applications
Lon-plantation | Thin Film | Etch | Process Development | Apparatus Design
Design and Manufacture
12 inch Fab traditum est ad actuositatem comprobandam, regenerationem praebendam ac reparandam, comprobandamque progressionem et consilium.
Cum instrumento processus et processu technologiae evolutionis semiconductoris et circuitionis integratae, chuucks traditionalis electrostaticae utentes materiae organicae polymerorum, oxydi metallici et materiae ceramicae sicut dielectricae non plene compatiuntur cum talibus materiis sicut lagana pii, sapphiri et carbidi pii. Ergo chucks electrostaticae compatiuntur cum prima, secunda et tertia generatione semiconductor laganum grippers paulatim evolvendum.
Polymerus Electrostatic Chuck / Heater
Polymerus materialis dielectric (Polymer) est nunc maxime latissime usus materia monax electrostaticae, eius processus praeparatio etiam maturus est, polymerus dielectrica materia post tractationem polymerorum modificationem, electricam, mechanicam, temperaturae resistentiam, halogen resistentiae proprietates valde meliores erunt. Materia dielectrica ab aliis operationibus integratis orta est, et deinde a multistage vacuo onere gravi iacuit, et densa insulatio dielectrica inter electrodes internae formatur.
Polymerus Electrostatic Chuck
Polymerus modificationis technologiae usus est ad altiorem molem resistivity et relativum dielectricam constantem consequi, et vi clamping firmiorem obtinere.
Magna densitas materiae dielectricae periculum materiae particularis minuere potest et mobilitatem ion minuere.
Varietas obiecti clampationis compatitur cum lagana laganarum diversarum materiarum.
Praeclara corrosio resistentiae in halogen et plasma atmosphaerarum.
Summus sumptus effectus, brevis acceptatio periodus, apta processui evolutionis et novo instrumento verificationis evolutionis aptae.
Al₂O₃ Electrostatic Chuck
Volumen resistivity regit per technologiam ceramicam coagulationem et processum co-ardentis ad vim longiorem obtinendam.
Structura interna caliditatis sintering densa est et structura crystalli stabilis, et capacitatem amplioris intervalli temperaturae obtinens haberi potest.
Integra co- cendi corona reduces ion migrationes.
Operatio durans in plasma halogen atmosphaeram vacuum.